25年首次修订！集成电路布图设计保护条例10月15日施行

2026年7月23日，国务院总理李强签署第842号国务院令，公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》。新条例共6章54条，自2026年10月15日起施行，这是该条例自2001年颁布实施25年来的首次全面修订。保护范围扩展至集成光子、量子芯片，新设独创性声明制度，侵权赔偿力度显著加大——对我国芯片设计企业而言，这是一次影响深远的制度升级，距离正式施行仅剩两个月，建议尽早规划应对。

一、为何修订：25年来的首次系统性升级

现行《集成电路布图设计保护条例》于2001年公布施行，对保护布图设计专有权、鼓励集成电路技术创新发挥了重要作用。但随着集成电路技术快速发展，光子、量子等颠覆性技术不断涌现，原有的登记、保护制度已难以适应产业需求。

司法部、国家知识产权局负责人介绍，此次修订遵循三项总体思路：一是贯彻落实党中央和国务院关于加强知识产权法治保障的决策部署，强化布图设计保护和运用；二是聚焦当前突出问题，完善登记、保护和管理制度，将实践中行之有效的做法上升为行政法规；三是与有关法律法规、国际条约做好衔接。

本次修订聚焦四大方向：明确总体要求（扩展保护范围、强调诚实信用）、完善申请审查程序（规制虚假申请、增设独创性声明）、加强专有权保护（明确权利范围、加大赔偿力度）、促进布图设计运用（加强公共服务、完善权利流转）。

二、修订亮点一：保护范围扩展至光子、量子芯片

新条例最引人关注的变化之一，是在与"集成电路"定义有关的条文表述中删除了"半导体集成电路"的字样，明确将集成光子、量子等功能的集成电路布图设计纳入保护范围。

这不仅是立法技术层面的调整，更彰显了我国知识产权立法面向未来、激励创新的态度。随着光子计算、量子计算加速从实验室走向产业化，这些新兴领域的布图设计同样需要明确的法律保护，新条例为此提供了制度支撑。

三、修订亮点二：新增独创性声明制度

独创性声明是本次修订增设的法定登记文件，也是此次修法最具专业含量的变化。

1. 什么是独创性声明

修订前，"独创性"虽是布图设计登记、保护的实体要件，但实践中很难通过申请登记程序具体指明，导致独创性判定成本高昂、保护范围模糊。新条例要求，独创性声明作为布图设计登记申请必须提交的申请文件之一，将抽象的"独创性"判断要件转化为可审查、可举证的书面文件，申请登记后存入官方档案，成为判断布图设计是否具备独创性的法定关键书证。

2. 独创性声明的撰写要求

根据新条例规定，申请人提交的复制件或者图样应当包含布图设计的必要信息，能够清楚地显示该布图设计具有独创性的部分；独创性声明应当指明布图设计具有独创性的设计区域、设计要点以及相应功能；布图设计作为整体具有独创性的，应当在独创性声明中具体说明。

3. 制度价值何在

独创性声明制度显著提升了布图设计保护范围的确定性：权利人在登记阶段即明确主张独创性边界，后续程序中不能再随意扩大保护范围；确权环节权利基础更加扎实，可有效降低登记被撤销的风险；同时引导申请人合法行使权利，更好地平衡权利人与社会公众的利益。

四、修订亮点三：规制虚假申请，加大保护力度

1. 规制虚假申请，明确驳回与撤销程序

新条例明确规定，布图设计登记申请应当以真实创作活动为基础，不得弄虚作假，从源头上规制虚假申请行为。申请登记的布图设计明显不符合规定的，应当驳回；布图设计获准登记后，任何人发现该登记不符合规定的，可以请求撤销；登记被撤销的，该布图设计专有权视为自始即不存在。

2. 新增权利恢复程序

当事人因不可抗拒的事由或者其他正当理由延误期限导致权利丧失的，可以请求恢复其权利，为权利人提供更充分的程序保障。

3. 侵权赔偿力度显著加大

新条例规定，受保护的布图设计以登记的复制件或者图样所显示的为准，独创性声明可以用于解释布图设计的独创性。侵权赔偿额按照权利人受到的实际损失或者侵权人获得的利益确定；难以确定的，参照许可使用费的倍数合理确定；情节严重的，适用惩罚性赔偿。

保护机制	修订前	修订后
保护范围	半导体集成电路布图设计	扩展至光子、量子等新型集成电路
登记要求	无独创性声明	必须提交独创性声明（指明区域、要点、功能）
虚假申请	规制不足	明确驳回；登记被撤销视为自始不存在
程序保障	无权利恢复程序	新增权利恢复程序
侵权赔偿	按损失/获利确定	参照许可使用费倍数；情节严重适用惩罚性赔偿

五、修订亮点四：促进布图设计运用与转化

新条例在促进布图设计运用方面着墨颇多：

• 加强公共服务：国务院知识产权行政部门应当会同有关部门采取措施，加强公共服务，促进布图设计运用
• 明确奖酬机制：法人或者非法人组织主持创作的布图设计，应当依照《促进科技成果转化法》和国家有关规定，对符合条件的人员给予合理的奖励和报酬
• 完善权利流转：完善布图设计转让、许可、出质要求；共有人对权利的行使有约定的从其约定，许可他人使用收取的使用费应当在共有人之间分配

这些规定与高校院所、科技型企业的成果转化实践直接相关，职务发明奖励落实有了更明确的法规依据。

六、芯片企业行动指南

新条例距施行不足两个月，建议芯片设计企业从以下三个方面提前准备：

1. 核对现有布图设计的登记状态

布图设计专有权的保护期为10年，自登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准；无论是否登记或投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后不再受保护。企业应核查核心布图设计的登记时间与创作时间，避免权利失效。

2. 建立独创性声明的内部准备机制

新条例施行后，登记申请材料包括：登记申请表、布图设计的复制件或者图样、独创性声明及规定的其他材料；已投入商业利用的，还应当提交含有该布图设计的集成电路样品。建议企业建立设计区域、设计要点、功能说明的常态化记录文档，为日后登记做好准备。

3. 关注商业利用时限

布图设计应当自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内向国务院知识产权行政部门提出登记申请，逾期将不受法律保护。计划新流片、新量产的企业，务必倒排登记时间表。

对于集成电路领域的科技型企业而言，布图设计登记属于I类知识产权，在高新技术企业认定、专精特新企业申报中具有与发明专利同等的重要作用。企业可将布图设计登记与高企申报、知识产权贯标等工作统筹规划，实现"一权多用"。

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